台积电2nm工艺缺陷率优于3nm和5nm

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发布时间: 2025-4-27 18:49

正文摘要:

【台积电2nm工艺缺陷率优于3nm和5nm】 在近期举行的北美技术论坛上,台积电首次对外披露了其N2(2nm制程)工艺的缺陷率(D0)相关信息。与此前的7nm、5nm以及3nm等制程相比,N2工艺在缺陷率控制方面表现更为优异。 ...

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